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碳化硅微孔陶瓷吸盤

參數(shù) 規(guī)格明細(xì)
材料純度 SiC ≥99.5%,游離硅≤0.5%
孔隙率 30%-70%(梯度孔隙可定制)
平均孔徑 1-50μm(激光打孔/造孔劑工藝)
導(dǎo)熱率 120W/m·K(25°C)
抗彎強(qiáng)度 ≥150MPa(多孔結(jié)構(gòu))
平面度 ≤0.005mm(精密磨削加工)
認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn) SEMI F47(半導(dǎo)體設(shè)備)...

定制服務(wù)
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一、多孔碳化硅陶瓷吸盤的核心優(yōu)勢

多孔碳化硅陶瓷吸盤(Porous SiC Ceramic Chuck)以高純度碳化硅粉體為基材,通過反應(yīng)燒結(jié)(RBSN)或凝膠注模工藝制成,兼具多孔結(jié)構(gòu)與碳化硅的卓越性能:

  • 超高導(dǎo)熱性:導(dǎo)熱率120W/m·K(是氧化鋁的5倍),快速散熱,減少熱應(yīng)力變形。
  • 極端耐溫性:長期耐溫1600°C,抗熱震性△T≥500°C(水冷驟變),適配高溫制程。
  • 精密微孔吸附:孔隙率30%-70%,孔徑1-50μm可控,真空吸附力≥0.08MPa,適配超薄晶圓/柔性基材。
  • 耐腐蝕耐磨:抗酸堿(PH 1-14)、等離子體侵蝕,硬度HV10 2200-2800,壽命是石墨吸盤的3倍。

二、核心應(yīng)用場景

  1. 半導(dǎo)體與電子工業(yè)

    • 晶圓鍵合/臨時(shí)鍵合:多孔均勻吸附,平面度≤0.005mm,適配12英寸晶圓減薄與鍵合工藝。
    • 光刻機(jī)熱管理:快速導(dǎo)熱,控制硅片溫度波動(dòng)≤±0.1°C,提升曝光精度。
  2. 光伏與新能源

    • PERC/TOPCon電池?zé)Y(jié)爐:耐溫1600°C,承載硅片不變形,碎片率≤0.01%。
    • 碳化硅外延托盤:高純度(金屬雜質(zhì)≤1ppm),適配SiC外延生長(MOCVD/MBE)。
  3. 激光與精密加工

    • 高功率激光切割吸盤:抗激光燒蝕(功率密度≥1kW/cm²),適配玻璃/陶瓷切割。
    • 3D打印基板:多孔透氣性,減少粉末粘附,提升打印件剝離效率。
  4. 高溫工業(yè)設(shè)備

    • 燒結(jié)爐承載板:抗高溫蠕變,承重≥50kg/m²(1600°C),適配陶瓷/金屬粉末燒結(jié)。
    • 真空釬焊夾具:耐焊料(Ag-Cu-Ti)腐蝕,重復(fù)使用≥1000次。

重慶及鋒科技服務(wù)優(yōu)勢

  • 全流程定制
    • 孔隙設(shè)計(jì):均勻孔/梯度孔/定向通道,適配真空吸附、氣體滲透等需求。
    • 表面處理:CVD碳化硅涂層(耐磨)、抗氧化涂層(SiO?/Al?O?)。
    • 尺寸規(guī)格:直徑φ100mm-φ600mm,厚度5-50mm,支持異形結(jié)構(gòu)(扇形/矩形)。
  • 成本優(yōu)勢:國產(chǎn)高純度碳化硅粉體,價(jià)格比進(jìn)口品牌低40%-60%。
參數(shù) 規(guī)格明細(xì)
材料純度 SiC ≥99.5%,游離硅≤0.5%
孔隙率 30%-70%(梯度孔隙可定制)
平均孔徑 1-50μm(激光打孔/造孔劑工藝)
導(dǎo)熱率 120W/m·K(25°C)
抗彎強(qiáng)度 ≥150MPa(多孔結(jié)構(gòu))
平面度 ≤0.005mm(精密磨削加工)
認(rèn)證標(biāo)準(zhǔn) SEMI F47(半導(dǎo)體設(shè)備)
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